CEM-システム
ベーパー制御による液体供給システム
一般情報
CEM(Controlled Evaporation
and Mixing)システムは、常圧や真空プロセスに適用可能な革新的液体供給システム(Liquid
Dosing System; LDS)です。蒸気発生システムは、液体流量調節計、キャリアーガス用流量調節計,混合弁と温度制御用ヒーターを備える蒸発部で構成されています。システムは1...1200
g/hの液体流量に対応し、飽和ベーパー流量50 mln/min...100 ln/minを作りだすことが可能です。バブリングシステム(バブラー)をこのシステムで置き換えることができます。蒸発システムは高速、正確、高再現性でしかも効率的です。
既存のバブラーにはない特徴として、CEMシステムは液体の混合物や液体に溶解している固体でさえも上手く蒸発させることが可能です。
VDM (Vapor Delivery Module)シリーズ:蒸気供給装置
上述のCEM技術に基づき、ブロンコストは新たな蒸気供給装置 (VDM) を設計しました。
ガス用および液体用の流量コントローラと温度コントロール可能な気化器といったCEMシステムの構成要素に加え、電源、コントロール機能、1.8インチTFT液晶ディスプレイといった運転に必要な一連の機能が小型の筐体に内蔵されています。
さらにオプションとして、トレースヒーターによる配管温度管理機能もご用意しており、現場でE-8000 のパネルから、または遠隔でデジタル通信により制御できます。
この小型のVDMシリーズは、配線と配管をつなぐだけで動作し、流量範囲100 mln/minから10 ln/minの範囲で飽和蒸気圧までの蒸気を供給可能です。
本装置は大気圧および真空のプロセスに適用可能であり、混合物や溶質に溶け込んだ固体も気化させることが可能です。
動画
特徴
- ガス/液体の正確混合(質量流量)
- 高速応答
- 高再現性
- 水、各種溶剤、混合液等
- 高安定性ベーパー流量
- ガス/液体比率選定がフレキシブル
- 通常システムに比して低運転温度
適用例
- CVD等
- 各種分析計のテスト/キャリブレーション用リファレンスガス発生用
- 毒ガス防護服の効果検査等
- 分析計(湿度計)用H2Oベーパー濃度リファレンス発生用
- 燃料電池の加湿
- 麻酔システム
キャパシティ(流量範囲)
モデル
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仕様
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Max. キャパシティー
(水ベース)
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Max. キャパシティー
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Max. temp.
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W-101A |
10 W, for µ-FLOW |
2 g/h 液体 |
4 ln/min ガス |
200°C |
W-102A |
10 W, for LIQUI-FLOW™/ mini CORI-FLOW™ |
30 g/h 液体 |
4 ln/min ガス |
200°C |
W-202A |
100 W, for LIQUI-FLOW™/ mini CORI-FLOW™ |
120 g/h 液体 |
10 ln/min ガス |
200°C
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W-303B |
1000 W, for LIQUI-FLOW™/ mini CORI-FLOW™ |
1200 g/h 液体 |
100 ln/min ガス |
200°C |
SW-100 |
10 W, VDM-Series |
30 g/h 液体 |
4 ln/min ガス |
200°C |
SW-200 |
100 W, VDM-Series |
120 g/h 液体 |
10 ln/min ガス |
200°C |
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